薄膜沉積控制儀廠家的詳細資料：

整合了Nucleus PlusTM  技術，薄膜沉積控制儀在模塊化的基礎上建立了溫度測量薄膜

控制系統。支持擴展4個輸入輸出口和探頭（2個標準儀器），實時的頻率-溫度曲線

和500℃操作晶體。傳統的檢測和測量手段由于忽視了晶體溫度的變化帶來了極大的

誤差，通常誤差為10%，在錯誤的環境下誤差可以為100%。菲利浦通過監測實時的溫

度變化，從而對薄膜進行高精度極低誤差控制。

薄膜沉積控制儀有非常高的穩定度和菲利浦產品慣有的精密度。6MHz（AT or RC

）的石英晶體前所未有的應用在了薄膜沉積領域。

功能齊全

可擴展的額外組件比如前面板的外部控制界面和后面板的探頭、I/O卡。Millennium 控制系統包含一個過溫控制繼電器（以防探頭冷卻失靈）和輸入/輸出的可編輯性，給您全部的軟件功能控制。

技術參數

探頭2個BNC 連接端（需要外部振蕩器）

溫度2 type K TC

輸入源2 0-5 VDC 輸入控制

繼電器（不可編輯） 2個單刀單擲開關

輸入端（可編輯） 8個獨立的5V輸入端

輸出端（可編輯） 8個5A單刀單擲開關繼電器

遠程電源手動電源控制-前面板FOB連接頭

可擴展輸入源卡2個輸入源、探頭、繼電器和type K TC

輸入：8個獨立的5V輸入端

輸出：8個5A單刀單擲

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